前言 

现行《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）由国务院以第300号令于2001年4月2日公布，同年10月1日起施行。作为我国集成电路领域首部专门性行政法规，《条例》为适应加入世界贸易组织、履行TRIPS协定义务而制定，二十余年来在维护布图设计专有权、鼓励技术创新、规范市场秩序方面发挥了基础性法治保障作用。

随着集成电路技术与产业的高速发展，后摩尔时代技术路径持续迭代，光子芯片、量子芯片等新兴形态接连涌现，布图设计的载体、功能与边界不断拓展。与此同时，我国知识产权强国建设深入推进，集成电路设计产业规模跃居世界前列，布图设计登记量逐年攀升，旧《条例》在保护客体范围、确权程序规则、侵权救济强度、转化运用机制等方面已难以适配实践需求，权利边界模糊、维权举证困难、侵权赔偿偏低、价值转化不畅等痛点日益凸显。

2024年12月26日，国家知识产权局发布《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》，面向社会公开征求意见；2026年7月10日，国务院第91次常务会议审议通过修订后的《条例》；2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令正式公布修订后的《条例》；修订后的《条例》自2026年10月15日起施行。本次修订是《条例》实施25年来的首次系统性大修，覆盖创造、运用、保护、管理、服务全链条，将条文总量从36条扩充至54条，是我国集成电路知识产权制度建设的重要里程碑。

本文选取其中的关键修订，逐项分析其修订要点、条文解读、意义与启示，以期为相关从业者提供参考。

一、扩容布图设计保护范围，引入诚实信用原则

（一）修订要点

1. 确立国家战略层面总体要求

《条例》新增第2条，规定“集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平”，将布图设计保护的定位上升到国家战略部署层面。

2. 保护客体扩容，纳入集成光子、量子布图设计

《条例》第3条修改了“集成电路”的定义，删除“半导体集成电路”这一限定性表述，并进一步规定“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。”

3. 新增诚实信用和禁止权利滥用原则

《条例》新增第9条，规定“申请布图设计登记和行使布图设计专有权应当遵循诚实信用原则。不得滥用布图设计专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益。滥用布图设计专有权，排除或者限制竞争，构成垄断行为的，依照《中华人民共和国反垄断法》处理。”

（二）条文解读

1. 总体要求具备重要指引价值

将布图设计保护工作上升至国家战略层面，不仅具有宣示意义，更具有实践指导价值。知识产权行政部门制定配套规则、人民法院审理相关案件时，均需以服务国家知识产权战略和集成电路产业发展为基本导向，在权利解释、责任认定中兼顾私权保护与产业公共利益。

2. 客体扩容体现布图设计保护本源

旧《条例》限定“半导体集成电路”，是基于2001年的技术现状作出的具象化表述，彼时集成电路以硅基半导体为主流。但随着光电融合集成、硅光光子集成、量子芯片等前沿技术的快速发展，相关产品已突破传统的“半导体基片+有源元件”的范围，其布图设计能否登记和获得专有权保护，在实践中处于灰色地带。布图设计保护的核心是元件与连线三维配置的独创性设计，而非仅限于材料介质。本次修订回归制度本源，将集成光子、量子等功能的布图设计纳入法定保护范围，打破原有仅保护硅基半导体布图设计的边界限制，使保护范围适配后摩尔时代多元技术路线的发展，为未来未知技术演进预留了充足的法律空间。

3. 两项原则填补规则适用空白

新《条例》借鉴二十多年来我国知识产权制度建设中的经验，引入诚实信用原则和禁止权利滥用原则，实现与《民法典》民事活动基本原则、《反垄断法》禁止滥用知识产权排除、限制竞争规则的衔接。诚实信用原则贯穿登记与行权全流程，可直接规制非正常申请、重复申请、抄袭他人设计骗取登记等行为，旧《条例》对上述行为缺乏前端规制手段，登记机关可依据新《条例》该原则直接驳回不诚信申请，从源头净化登记环境。禁止权利滥用规则则为应对恶意维权提供了法律依据，若行为人利用布图设计恶意提起侵权诉讼干扰正常经营，或利用布图设计专有权实施垄断行为，被控侵权方可以权利滥用为由提出抗辩，法院可据此驳回不当诉讼请求。

（三）意义与启示

1. 为新兴芯片赛道提供制度保障

自2022年起，我国含有光子、量子器件的集成电路布图设计登记申请数量开始增多，2024年后呈现出规模申报的趋势。修订后的《条例》及时回应产业发展需求，为硅光互联、光电融合、量子计算芯片等新兴领域的企业提供了明确的知识产权保护路径，有助于加速技术成果产业化落地。布图设计登记兼具成本低、审查快、保护针对性强的特点，可以预见，新型器件领域的布图设计登记量将在新《条例》施行后迎来快速增长，相关企业宜尽早将登记纳入研发成果管理流程。

2. 构建公平有序的市场竞争环境

诚信原则和禁止权利滥用原则能够遏制以登记数量换取政策资源、以低质量登记进行恶意竞争的行为，防止布图设计专有权被异化为不正当竞争工具，避免出现恶意维权现象，保障产业链上下游企业的正常经营空间，实现权利人利益与产业公共利益的动态平衡。上述条款对于企业而言亦是合规提示，需保证登记申请材料与实际研发过程相互印证，否则登记稳定性将受到挑战。

二、完善授权确权程序，增强权利可预期性

（一）修订要点

1. 规制非正常申请行为

《条例》新增第20条，规定“提出布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。”

2. 设立独创性声明制度

《条例》第22条将“独创性声明”列为布图设计登记申请必须提交的材料之一，新增第23条规定“申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分”；新增第24条，规定“独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能。布图设计作为整体具有独创性的，应当在独创性声明中具体说明”；新增第34条，规定“受保护的布图设计以登记的布图设计的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性”。

3. 细化登记审查程序规则

《条例》新增第27条，规定“国务院知识产权行政部门对布图设计登记申请进行初步审查，认为申请登记的布图设计明显不符合本条例第三条第一款第一项、第二项或者第七条、第二十条、第二十三条、第二十四条的规定的，应当通知申请人，要求其在指定期限内陈述意见或者补正；申请人期满未答复的，其申请视为撤回。申请人陈述意见或者补正后，国务院知识产权行政部门仍然认为不符合本条例规定的，应当予以驳回。”明确了初步审查的具体审查要求，补充规定视为撤回、驳回申请的法定情形。

4. 增设依申请撤销登记程序

《条例》第30条在原有依职权撤销的基础上增加依申请撤销的规定，任何人发现登记不符合条例规定的，均可以请求撤销布图设计登记。同时新增第31条，规定“布图设计登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在”。

5. 构建权利恢复机制

《条例》新增第33条，对因不可抗拒的事由或者其他正当理由延误期限导致权利丧失的，提供了相应的权利恢复渠道，当事人可以自障碍消除之日起2个月内且自期限届满之日起2年内、或自收到国务院知识产权行政部门的通知之日起2个月、或自复审请求期限届满之日起2个月内请求恢复权利，并且规定延长期限请求应在期限届满前提出。

（二）条文解读

1. 打击非正常申请，强化登记公信力

第20条响应第9条诚实信用的总要求，明确禁止虚假申请，将诚信原则前置于申请环节，打击虚构创作事实、抄袭他人设计、批量登记缺乏独创性的常规设计等非正常申请行为，有效净化登记环境，提升布图设计登记的整体公信力。

2. 独创性声明制度有助于解决核心痛点

布图设计专有权保护的客体是其中具有独创性的部分，也即复制非独创性部分并不构成侵权。长期以来，由于登记并未要求指明独创性部分且仅进行形式审查，权利边界未在登记阶段固定，侵权诉讼中双方需耗费大量成本界定独创性部分，各地裁判标准也不统一。独创性声明制度的设立将权利界定环节前移至登记阶段，作为后续确权、维权中解释独创性的关键依据，既要求申请人审慎提交申请和撰写独创性声明，也为后续侵权比对提供了明确参照基准，降低权利人举证难度，提高侵权判定效率，解决维权中独创性部分难以界定的痛点。

需要注意的是，独创性声明的作用是解释而非创设保护范围，最终保护范围仍以登记的复制件或图样为准，若二者内容不一致，应当以复制件或图样记载为准。

3. 依申请撤销实现权利制衡

旧《条例》仅赋予国务院知识产权行政部门依职权撤销登记的权限，纠错渠道单一且启动门槛高。《条例》新增依申请撤销规定，与专利无效宣告程序的逻辑类似，通过引入公众监督机制平衡权利人与社会公众利益，被控侵权人或利害关系人可在侵权诉讼之外，通过行政撤销程序挑战登记的权利有效性，形成“行政确权+司法保护”的二元制衡格局。

4. 权利恢复机制体现制度弹性

布图设计登记申请、缴费、答复等环节均有严格期限要求，实践中常有企业因不可抗力、内部管理疏漏等错过期限导致权利丧失，且无救济渠道。本次修订新增权利恢复程序，明确了适用条件、申请期限与办理流程，为非主观过错导致的权利丧失提供补救途径，降低了企业的权利维护成本，也与国际通行知识产权规则接轨。

（三）意义与启示

1. 降低企业布图设计维护成本

独创性声明明确了权利边界，能够减少后续确权与侵权纠纷中的争议，帮助企业在维权时快速切入核心比对，缩短维权周期，降低举证成本；权利恢复制度则避免了企业因意外失误丧失核心知识产权，减少合规管理风险。

2. 提升布图设计权利的商业价值

通过规制虚假申请、引入公众监督撤销机制，能够有效剔除无独创性、权利基础存疑的登记，使布图设计登记的权利含金量显著提升。企业持有的布图设计专有权在交易、许可、融资时的估值与可信度也将相应提高，更易实现无形资产变现。对于权利方，应认真评估待申请的布图设计是否具有独创性，审慎撰写独创性声明，以免不当声明而被被诉方利用，在提起侵权诉讼之前，也应以被诉方的视角先行检验自身登记能否经受撤销审查；对于被诉方，遭遇侵权指控时，先行提起撤销请求将成为重要的反击措施。

3. 增强企业布图设计布局的可预期性

审查程序的细化、期限规则的明确，有助于企业更清晰地规划登记申请节奏，合理安排研发成果的布图设计布局时间线，适配产品上市节奏，避免因审查周期不确定导致的权利真空期。

三、加大侵权惩戒力度，提高专有权保护水平

（一）修订要点

1. 完善侵权损害赔偿规则

《条例》第46条细化赔偿计算方式，与《民法典》、《专利法》、《商标法》、《著作权法》的赔偿规则接轨，新增规定“权利人的损失或者侵权人获得的利益难以确定的，参照该布图设计许可使用费的倍数合理确定”，同时引入惩罚性赔偿制度，新增规定“对故意侵犯布图设计专有权，情节严重的，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。”

2. 强化保密要求

《条例》第5条、第32条和第48条规定代理机构、国务院知识产权行政部门工作人员及有关人员的保密义务以及泄露布图设计未公开内容应当承担的法律责任；新增第50条，明确公众可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件，但除诉讼或者行政处理程序等国家机关依法履职需要外，任何人不得查阅或者复制布图设计的复制件或者图样的电子版本。

3. 新增对等原则条款

《条例》新增第53条，规定“任何国家或者地区在集成电路布图设计保护方面对中华人民共和国采取歧视性的禁止、限制或者其他类似措施的，中华人民共和国可以根据实际情况对有关国家或者地区采取相应的措施。”

（二）条文解读

1. 惩罚性赔偿形成强有力法律威慑

旧《条例》仅规定补偿性赔偿，导致侵权成本可能远低于侵权收益，恶意侵权屡有发生。本次修订引入1-5倍惩罚性赔偿，是知识产权惩罚性赔偿制度在布图设计领域的正式落地，其适用需满足两个核心要件：主观上为“故意侵权”，即明知他人享有专有权仍实施侵权行为，如收到权利人通知后继续侵权、刻意抄袭模仿等；客观上达到“情节严重”，通常包括侵权规模大、持续时间长、获利数额高、多次侵权、拒不停止侵权等情形。对企业而言，惩罚性赔偿意味着故意侵权的经济风险大幅提升，同时也意味着作为权利人维权时可主张更高额赔偿，更充分地弥补研发投入损失。

2. 构建三层保护体系

《条例》通过多条条款构建了保密、追责、有限公开的三层保护体系，一方面明确代理机构、审查人员等主体的保密义务及泄密法律责任，强化对未公开布图设计内容的保护，另一方面在保障公众知情权的同时，严格限制电子版本的查阅复制，仅允许查阅纸件，有效防止核心技术信息被不当获取或传播。

3. 对等原则条款为国际博弈提供法律依据

当前全球集成电路产业竞争日趋激烈，部分国家在知识产权领域对我国企业设置壁垒。对等原则条款的设立，与《对外贸易法》等法律的对等原则相呼应，使我国应对歧视性待遇时有明确的行政法规依据，能够通过对等反制维护我国企业合法权益，也为我国参与国际知识产权规则谈判提供了国内法支撑。

（三）意义与启示

1. 提升企业维权积极性、侵权自查主动性

赔偿计算方式的完善和惩罚性赔偿制度的落地，提高了胜诉获赔的预期，激励企业更愿意通过法律途径维护自身权益，对恶意抄袭、仿冒他人布图设计的行为形成强有力的法律威慑，促使企业主动自查侵权风险，推动整个产业形成尊重知识产权、重视创新的良性氛围，保护真正投入研发的创新型企业合法权益。

2. 消除企业登记的泄密顾虑

严格的保密规则消除了企业提交登记的泄密担忧，能够更放心地将核心版图纳入官方保护体系，不必过度依赖商业秘密的单一保护模式，推动更多企业主动开展布图设计登记布局。

3. 服务产业国际竞争与对外开放

对等原则条款为我国集成电路企业出海提供了制度后盾，有助于在国际经贸摩擦中维护我国产业利益，营造公平的国际竞争环境。

四、健全转化运用机制，释放布图设计价值

（一）修订要点

1. 增加公共服务要求

《条例》新增第10条，规定“国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强布图设计公共服务，促进布图设计运用”，强化行政部门的公共服务职能，推动布图设计成果的转化与产业化运用。

2. 明确职务创作奖酬措施

《条例》新增第16条，规定对于职务布图设计，“法人或者非法人组织应当依照《中华人民共和国促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬”。

3. 完善转让、许可、出质等权利行使规则

《条例》第35条增加向外国主体转让的手续要求，增加许可备案要求，同时建立专有权出质登记制度。

4. 规范共有人权利行使

《条例》新增第36条，规定“布图设计专有权的共有人对权利的行使有约定的，从其约定。没有约定的，共有人可以单独使用或者以普通许可方式许可他人使用该布图设计；许可他人使用该布图设计的，收取的使用费应当在共有人之间分配。除前款规定的情形外，行使共有的布图设计专有权应当取得全体共有人的同意。”

（二）条文解读

1. 职务奖酬激发创新活力

新《条例》明确了职务布图设计的奖励和报酬，适用《促进科技成果转化法》和国家有关规定，直接惠及一线芯片设计工程师，让研发人员从创新成果产业化中获得实实在在的回报，从根源上激发人才创新动力，促进科技成果转化。

2. 权利流转制度的完善保障交易安全

向外国主体转让的程序要求，是总体国家安全观在知识产权领域的体现，能够防止涉及核心技术的布图设计违规外流，衔接技术出口管制法律法规。许可备案制度则赋予许可合同公示效力，减少权利流转中的权属争议，保障交易相对方的信赖利益，维护布图设计交易市场秩序。

3. 出质登记制度拓宽科技企业融资渠道

集成电路设计企业属于典型的轻资产、高研发投入企业，传统固定资产抵押融资难度大。布图设计专有权作为企业核心知识产权，此前缺乏明确的质押登记规则，难以作为合格质押物获得银行融资。本次修订设立专有权出质登记制度，使布图设计专有权成为合规的知识产权质押标的，能够有效盘活企业无形资产，帮助中小微芯片设计企业拓宽融资路径，缓解现金流压力，拓宽融资渠道。

4. 共有规则减少合作研发纠纷

集成电路研发往往涉及产学研合作、企业间联合开发，由此产生大量共有布图设计。旧《条例》未规定共有权利行使规则，实践中极易因权利行使、收益分配产生纠纷，甚至导致合作成果无法落地转化。本次修订参照《专利法》新增共有人权利行使规则，遵循约定优先、法定补充原则，既保障各共有人合法权益，也避免因一票否决导致权利闲置，有效促进合作研发成果产业化

（三）意义与启示

1. 加速布图设计成果产业化落地

公共服务体系的完善能够降低企业获取布图设计信息、对接转化资源的成本，推动产学研用深度融合，让更多实验室阶段的布图设计成果走向市场应用，提升产业整体创新效率。

2. 夯实集成电路产业人才基础

职务布图设计奖酬的明确化、法定化，能够提升芯片研发岗位的吸引力，让技术人才凭借创新获得合理回报，有助于我国集成电路产业留住核心人才、吸引高端人才，强化产业人才支撑。

3. 助力中小设计企业破解融资难题

质押融资渠道的打通，能够将企业的无形资产转化为有形资产，尤其是对于处于成长期的中小设计企业，可考虑将布图设计专有权质押作为融资补充，助力企业加大研发投入，实现快速发展。

4. 促进产业协同与合作创新

共有权利规则的完善，降低了企业间、产学研合作的制度成本，能够鼓励更多主体开展联合研发，集中力量突破关键技术瓶颈，推动产业协同创新生态的形成。同时，提示企业对共有布图设计形成在先约定，以避免后续可能的纠纷。

结语

本次《集成电路布图设计保护条例》的全面修订，是我国集成电路知识产权制度适应新时代产业发展需求的关键升级，既回应了后摩尔时代技术迭代的客观挑战，也解决了长期困扰司法实践和产业发展的制度痛点。对于企业而言，新《条例》保护范围的扩容意味着知识产权布局思维的扩容，从事硅光互联、量子计算芯片等领域的企业，可将布图设计登记同步纳入自身的布局体系之中。同时，新《条例》也为合规带来更高的要求，惩罚性赔偿使侵权代价倍增，独创性声明的提交质量、登记时机的把握、商业利用时间的证据留存，将决定未来维权所获的赔偿数额。

随着2026年10月15日施行日期临近，建议各类集成电路企业提前做好制度衔接与合规准备：一是全面梳理自身布图设计知识产权资产，重点核查光子、量子等新兴领域的设计成果，及时补充登记布局，填补保护空白；二是优化登记申请文件质量，严格按照独创性声明要求明确独创点，确保登记文件清晰准确，强化权利基础；三是建立健全侵权风险防控机制，规范研发流程，降低侵权风险，同时完善证据留存体系，为潜在维权做好准备；四是充分运用新规则释放的制度红利，探索布图设计质押融资、许可转化等多元价值实现路径，将知识产权优势转化为市场竞争优势。

特别声明：本文仅供参考，不构成律师的正式意见，不应被看作是采取任何法律行动或进行法律决策的依据。文中所述仅代表作者个人观点，并不反映作者所服务的任何机构或客户的立场。